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[서울=뉴스핌] 이영기 기자 =국일제지(078130)는 자회사 국일그래핀이 국내외 업체와 협업을 통해 현재 그래핀 기반 펠리클(Pellicle) 부품 개발에 나선다고 11일 밝혔다.

펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에 사용되는 오염방지 부품으로 포토마스크 교체 주기를 줄여 공정비용 절감과 생산성 향상에 효과적이다. 펠리클은 EUV(극자외선) 장비에서 높은 투명성과 고온 저항성이 요구된다고 알려져 있다.

국일그래핀은 국내외 유일의 비전사 CVD 박막 그래핀 합성 기술을 보유하고 있다. 국일그래핀은 이를 바탕으로 반도체 EUV설비 필수 부품 중 하나인 펠리클 뿐만 아니라 투명전극, 디스플레이 등 그래핀을 활용한 다양한 분야에서 다수 기업과 협업을 통한 연구개발에 박차를 가하고 있다.

국일그래핀은 "EUV펠리클 소재 요구 특성이 매우 까다로워 국내외에서 실리콘 소재, 은나노, 그래핀, 탄소나노튜브 등 여러 신소재와 복합물질을 펠리클 소재로 응용하고자 연구개발되고 있다"며 "그 중 그래핀은 높은 투광성과 강도 등으로 EUV펠리클에 유용한 재료이다"라고 말했다.

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